智鑫航滚轮导轨在光刻机设备中的应用

发布时间:2026年4月30日 所属分类:应用案例
智鑫航滚轮导轨在光刻机设备中的应用

应用描述:

在半导体光刻工艺中,传动机构需在10⁻⁵Pa 高真空、100℃ 高温及超高洁净度环境下运行。

应用难点:

1.真空污染:传统碳钢导轨会释气,破坏腔体真空度。 2.颗粒污染:普通润滑脂挥发会污染晶圆。3. 维护困难:滑块与导轨固定连接,难以快速分离维护。

解决方案:

智鑫航真空滚轮导轨

  1. 超高真空兼容(10⁻⁷Pa):采用 420C 不锈钢材质,无释气风险,确保真空环境稳定。
  2. 免润滑与洁净设计:滚轮采用超低发尘油脂(高温释气率低于 0.01%),部分型号支持全干摩擦或固体润滑(如 MoS₂ 镀膜),杜绝油蒸气污染。
  3. 分体式结构:滚轮与导轨可完全分离,便于设备维护和工装切换,相比传统滚珠导轨大幅提升灵活性
  4. 耐高温与高精度:特殊热处理工艺确保 100℃~260℃ 高温下不变形;偏心轮预紧设计实现零间隙、高刚性,重复定位精度可达 ≤±0.03mm。

选用智鑫航滚轮导轨的原因:

  1. 稳定性:长期保持 10⁻⁵Pa 以上真空环境,无释气。
  2. 洁净度:零颗粒污染,符合 ISO Class 4 级洁净室标准。
  3. 高效率:分体式设计使工装切换时间缩短 50%,且抗振动性能优异,避免晶圆偏移。
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